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Transition between the discharge regimes of high power impulse magnetron sputtering and conventional direct current magnetron sputtering

Lundin, D.; Brenning, N.; Jädernäs, D.; Larsson, P.; Wallin, E.; Lattemann, M. 1; Raadu, M. A.; Helmersson, U.
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1088/0963-0252/18/4/045008
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Zitationen: 67
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110077926
HGF-Programm 43.03.06 (POF II, LK 01) Konstitution, Synthese u.Processing
Erschienen in Plasma Sources Science and Technology
Band 18
Seiten 045008/1-6
Nachgewiesen in Dimensions
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