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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1088/0963-0252/18/4/045008
Web of Science
Zitationen: 57

Transition between the discharge regimes of high power impulse magnetron sputtering and conventional direct current magnetron sputtering

Lundin, D.; Brenning, N.; Jädernäs, D.; Larsson, P.; Wallin, E.; Lattemann, M.; Raadu, M.A.; Helmersson, U.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110077926
HGF-Programm 43.03.06 (POF II, LK 01)
Erschienen in Plasma Sources Science and Technology
Band 18
Seiten 045008/1-6
Nachgewiesen in Web of Science
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