Transition between the discharge regimes of high power impulse magnetron sputtering and conventional direct current magnetron sputtering
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2009 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110077926 |
| HGF-Programm | 43.03.06 (POF II, LK 01) Konstitution, Synthese u.Processing |
| Erschienen in | Plasma Sources Science and Technology |
| Band | 18 |
| Seiten | 045008/1-6 |
| Nachgewiesen in | Dimensions Scopus Web of Science |