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Magnetron sputter deposition of low-stress, carbon-containing cubic boron nitride films using Ar-N₂-CH₄ gas mixtures

Ulrich, S. 1; Ye, J. 1; Stüber, M. 1; Ziebert, C. 1
1 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.tsf.2009.09.100
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Zitationen: 6
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Zitationen: 6
Dimensions
Zitationen: 5
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110078026
HGF-Programm 43.03.06 (POF II, LK 01) Konstitution, Synthese u.Processing
Erschienen in Thin Solid Films
Band 518
Seiten 1455-58
Nachgewiesen in Dimensions
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