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Magnetron sputter deposition of low-stress, carbon-containing cubic boron nitride films using Ar-N₂-CH₄ gas mixtures

Ulrich, S.; Ye, J.; Stüber, M.; Ziebert, C.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.tsf.2009.09.100
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seit 11.03.2019
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110078026
HGF-Programm 43.03.06 (POF II, LK 01)
Erschienen in Thin Solid Films
Band 518
Seiten 1455-58
Nachgewiesen in Web of Science
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