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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.tsf.2009.09.100
Web of Science
Zitationen: 5

Magnetron sputter deposition of low-stress, carbon-containing cubic boron nitride films using Ar-N₂-CH₄ gas mixtures

Ulrich, S.; Ye, J.; Stüber, M.; Ziebert, C.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110078026
HGF-Programm 43.03.06; LK 01
Erschienen in Thin Solid Films
Band 518
Seiten 1455-58
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