KIT | KIT-Bibliothek | Impressum

Patterning and annealing of nanocrystalline LiCoO₂ thin films

Kohler, R.; Smyrek, P.; Ulrich, S.; Bruns, M.; Trouillet, V.; Pfleging, W.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1)
Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2010
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110078766
HGF-Programm 43.15.02; LK 01
Erschienen in Journal of Optoelectronics and Advanced Materials
Band 12
Seiten 547-52
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft KITopen Landing Page