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Sputter deposition of nanocrystalline β-SiC films and molecular dynamics simulations of the sputter process

Ziebert, C. 1; Ye, J. 1; Ulrich, S. 1; Prskalo, A. P.; Schmauder, S.
1 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1166/jnn.2010.1842
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Zitationen: 11
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Zitationen: 11
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Zitationen: 10
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2010
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110078767
HGF-Programm 43.12.01 (POF II, LK 01) Tailored properties of nanomaterials
Erschienen in Journal of Nanoscience and Nanotechnology
Band 10
Seiten 1120-28
Nachgewiesen in Web of Science
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