KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

Crystallisation of magnetron sputtered amorphous si₁₋ₓCₓ films (x=1/3) studied by grazing incidence X-ray diffractometry

Gruber, W.; Najafabadi, H. H.; Geckle, U. 1; Bruns, M. 1; Schmidt, H.
1 Institut für Meteorologie und Klimaforschung – Forschungsbereich Troposphäre (IMK-TRO), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1080/14786435.2010.497474
Scopus
Zitationen: 3
Web of Science
Zitationen: 3
Dimensions
Zitationen: 3
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2010
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110080125
HGF-Programm 43.12.02 (POF II, LK 01) Tuneable properties of nanomaterials
Erschienen in Philosophical Magazine
Band 90
Seiten 3855-65
Externe Relationen Abstract/Volltext
Nachgewiesen in Web of Science
Dimensions
Scopus
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page