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Crystallisation of magnetron sputtered amorphous si₁₋ₓCₓ films (x=1/3) studied by grazing incidence X-ray diffractometry

Gruber, W.; Najafabadi, H.H.; Geckle, U.; Bruns, M.; Schmidt, H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2010
Sprache Englisch
Identifikator DOI: 10.1080/14786435.2010.497474
KITopen ID: 110080125
HGF-Programm 43.12.02; LK 01
Erschienen in Philosophical Magazine
Band 90
Seiten 3855-65
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