Crystallisation of magnetron sputtered amorphous si₁₋ₓCₓ films (x=1/3) studied by grazing incidence X-ray diffractometry
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2010 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110080125 |
| HGF-Programm | 43.12.02 (POF II, LK 01) Tuneable properties of nanomaterials |
| Erschienen in | Philosophical Magazine |
| Band | 90 |
| Seiten | 3855-65 |
| Externe Relationen | Abstract/Volltext |
| Nachgewiesen in | Web of Science Scopus Dimensions OpenAlex |