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Carrier transport in nanocrystalline field-effect transistors: impact of interface roughness and geometrical carrier trap

Okamura, K.; Hahn, H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2010
Sprache Englisch
Identifikator DOI: 10.1063/1.3495798
KITopen ID: 110080751
HGF-Programm 43.12.02; LK 01
Erschienen in Applied Physics Letters
Band 97
Seiten 153114/1-3
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