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Substrate-independent dip-pen nanolithography based on reactive coatings

Chen, H.Y.; Hirtz, M.; Deng, X.; Laue, T.; Fuchs, H.; Lahann, J.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/ja108679m
Scopus
Zitationen: 54
Web of Science
Zitationen: 51
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2010
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110081308
HGF-Programm 47.01.04 (POF II, LK 01)
Erschienen in Journal of the American Chemical Society
Band 132
Seiten 18023-18025
Nachgewiesen in Web of Science
Scopus
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