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In-situ deposition of alkali and alkaline earth hydride thin films to investigate the formation of reactive hydride composites

Gonzalez-Silveira, M.; Gremaud, R.; Schreuders, H.; Setten, M. M. van; Batyrev, E.; Rougier, A.; Dupont, L.; Bardaji, E. G. 1; Lohstroh, W. 1; Dam, B.
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/jp101704m
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Zitationen: 11
Web of Science
Zitationen: 10
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Zitationen: 11
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2010
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110081422
HGF-Programm 43.15.01 (POF II, LK 01) Hydrogen storage materials
Erschienen in Journal of Physical Chemistry C
Band 114
Seiten 13895-13901
Nachgewiesen in Web of Science
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