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In-situ deposition of alkali and alkaline earth hydride thin films to investigate the formation of reactive hydride composites

Gonzalez-Silveira, M.; Gremaud, R.; Schreuders, H.; van Setten, M.M.; Batyrev, E.; Rougier, A.; Dupont, L.; Bardaji, E.G.; Lohstroh, W.; Dam, B.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/jp101704m
Scopus
Zitationen: 8
Web of Science
Zitationen: 7
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2010
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110081422
HGF-Programm 43.15.01 (POF II, LK 01)
Erschienen in Journal of Physical Chemistry C
Band 114
Seiten 13895-13901
Nachgewiesen in Web of Science
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