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Fully dense, non-faceted 111-textured high power impulse magnetron sputtering TiN films grown in the absence of substrate heating and bias

Lattemann, M. 1; Helmersson, U.; Greene, J. E.
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.tsf.2010.05.064
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Zitationen: 93
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2010
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110081568
HGF-Programm 43.12.01 (POF II, LK 01) Tailored properties of nanomaterials
Erschienen in Thin Solid Films
Band 518
Seiten 5978-5980
Nachgewiesen in Dimensions
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