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Fully dense, non-faceted 111-textured high power impulse magnetron sputtering TiN films grown in the absence of substrate heating and bias

Lattemann, M.; Helmersson, U.; Greene, J.E.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2010
Sprache Englisch
Identifikator DOI: 10.1016/j.tsf.2010.05.064
KITopen ID: 110081568
HGF-Programm 43.12.01; LK 01
Erschienen in Thin Solid Films
Band 518
Seiten 5978-5980
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