X-ray diffraction imaging of dislocation generation related to microcracks in Si wafers

Wittge, J.; Danilewsky, A.; Allen, D.; McNally, P.; Li, Z. J.; Baumbach, T.; Gorostegui-Colinas, E.; Garagorri, J.; Elizalde, M. R.; Jacques, D.; Fossati, M. C.; Bowen, D. K.; Tanner, B. K.

doi:10.1154/1.3392369

X-ray diffraction imaging of dislocation generation related to microcracks in Si wafers

Wittge, J.; Danilewsky, A.; Allen, D.; McNally, P.; Li, Z. J. ¹; Baumbach, T. ¹; Gorostegui-Colinas, E.; Garagorri, J.; Elizalde, M. R.; Jacques, D.; Fossati, M. C.; Bowen, D. K.; Tanner, B. K.
¹ Karlsruher Institut für Technologie (KIT)

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DOI: 10.1154/1.3392369

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Synchrotronstrahlung (ISS)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	2010
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 110081701
HGF-Programm	55.51.20 (POF II, LK 02) Infrastr.u.Betrieb ANKA-Beschleunigeranl
Erschienen in	Powder Diffraction
Band	25
Seiten	99-103
Nachgewiesen in	Dimensions Web of Science Scopus

Repository KITopen

X-ray diffraction imaging of dislocation generation related to microcracks in Si wafers