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Dislocation generation related to micro-cracks in Si wafers: High temperature in-situ study with white beam X-ray topography

Danilewsky, A.N.; Wittge, J.; Hess, A.; Cröll, A.; Allen, D.; McNally, P.J.; Vagovic, P.; Cecilia, A.; Li, Z.; Baumbach, T.; Gorostegui-Colinas, E.; Elizalde, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Synchrotronstrahlung (ISS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2010
Sprache Englisch
Identifikator DOI: 10.1016/j.nimb.2009.09.013
KITopen ID: 110081811
HGF-Programm 55.51.20; LK 02
Erschienen in Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B
Band 268
Seiten 399-402
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