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Polyimide-based X-ray masks with advanced performance of pattern accuracy and thermal stability

Kinuta, S.; Saita, Y.; Kobayashi, M.; Boerner, M.; Saile, V.; Hosaka, S.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2010
Sprache Englisch
Identifikator DOI: 10.1007/s00542-010-1098-5
KITopen ID: 110081886
HGF-Programm 55.51.10; LK 02
Erschienen in Microsystem Technologies
Band 16
Seiten 1299-1302
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