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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.commatsci.2010.08.006
Web of Science
Zitationen: 6

Molecular dynamics simulations of the sputtering process of silicon and the homoepitaxial growth of a Si coating on silicon

Prskalo, A.P.; Schmauder, S.; Ziebert, C.; Ye, J.; Ulrich, S.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2011
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110082069
HGF-Programm 43.03.06 (POF II, LK 01)
Erschienen in Computational Materials Science
Band 59
Seiten 1320-1325
Nachgewiesen in Web of Science
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