Molecular dynamics simulations of the sputtering process of silicon and the homoepitaxial growth of a Si coating on silicon
Prskalo, A. P.; Schmauder, S.; Ziebert, C.
1; Ye, J. 1; Ulrich, S. 1
1 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1; Ye, J. 1; Ulrich, S. 11 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2011 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110082069 |
| HGF-Programm | 43.03.06 (POF II, LK 01) Konstitution, Synthese u.Processing |
| Erschienen in | Computational Materials Science |
| Band | 59 |
| Seiten | 1320-1325 |
| Nachgewiesen in | Scopus Web of Science Dimensions |