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Molecular dynamics simulations of the sputtering process of silicon and the homoepitaxial growth of a Si coating on silicon

Prskalo, A. P.; Schmauder, S.; Ziebert, C. 1; Ye, J. 1; Ulrich, S. 1
1 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.commatsci.2010.08.006
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Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2011
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110082069
HGF-Programm 43.03.06 (POF II, LK 01) Konstitution, Synthese u.Processing
Erschienen in Computational Materials Science
Band 59
Seiten 1320-1325
Nachgewiesen in Dimensions
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