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Nitrogen self-diffusion in magnetron sputtered Si-C-N films

Hüger, E.; Schmidt, H.; Geue, T.; Stahn, J.; Tietze, U.; Lott, D.; Markwitz, A.; Geckle, U.; Bruns, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Werkstoffprozesstechnik (IAM-WPT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2011
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110083806
HGF-Programm 43.15.02; LK 01
Erschienen in Journal of Applied Physics
Band 109
Seiten 093522/1-8
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