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Post-synthetic modification of epitaxially grown, highly oriented functionalized MOF thin films

Shekhah, O. 1; Arslan, H. K. 1; Chen, K.; Schmittel, M.; Maul, R. 2,3; Wenzel, W. 4; Wöll, C. 1
1 Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Scientific Computing Center (SCC), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Center for Functional Nanostructures (CFN), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
4 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Postprint §
DOI: 10.5445/IR/110084118
Veröffentlicht am 02.02.2023
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1039/C1CC12543E
Scopus
Zitationen: 53
Web of Science
Zitationen: 53
Dimensions
Zitationen: 59
BibTeX (UTF-8) BibTeX (ASCII) EndNote/Refer (.enw) RIS CSL-JSON ISI
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Scientific Computing Center (SCC)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2011
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0022-4936, 0009-241X, 1359-7345, 1364-548X, 2050-5620, 2050-5639
KITopen-ID: 110084118
HGF-Programm 43.12.01 (POF II, LK 01) Tailored properties of nanomaterials
Erschienen in Chemical communications
Verlag Royal Society of Chemistry (RSC)
Band 47
Seiten 11210-11212
Nachgewiesen in Web of Science
Scopus
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