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Influence of deposition temperature and bias voltage on the crystalline phase of Er₂O₃ thin films deposited by filtered cathodic arc

Adelhelm, C.; Pickert, T.; Koch, F.; Balden, M.; Jahn, S.; Rinke, M. 1; Maier, H.
1 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.jnucmat.2010.12.163
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Zitationen: 3
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2011
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110084703
HGF-Programm 43.12.01 (POF II, LK 01) Tailored properties of nanomaterials
Erschienen in Journal of Nuclear Materials
Band 417
Seiten 798-801
Nachgewiesen in Dimensions
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