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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.jnucmat.2010.12.163
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Zitationen: 1

Influence of deposition temperature and bias voltage on the crystalline phase of Er₂O₃ thin films deposited by filtered cathodic arc

Adelhelm, C.; Pickert, T.; Koch, F.; Balden, M.; Jahn, S.; Rinke, M.; Maier, H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2011
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110084703
HGF-Programm 43.12.01; LK 01
Erschienen in Journal of Nuclear Materials
Band 417
Seiten 798-801
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