Influence of deposition temperature and bias voltage on the crystalline phase of Er₂O₃ thin films deposited by filtered cathodic arc
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2011 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110084703 |
| HGF-Programm | 43.12.01 (POF II, LK 01) Tailored properties of nanomaterials |
| Erschienen in | Journal of Nuclear Materials |
| Band | 417 |
| Seiten | 798-801 |
| Nachgewiesen in | Dimensions Scopus Web of Science |