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Electronic origin of structure and mechanical properties in Y and Nb alloyed Ti-Al-N thin films

Rachbauer, R.; Holec, D.; Lattemann, M. 1; Hultman, L.; Mayrhofer, P. H.
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.3139/146.110520
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Zitationen: 35
Web of Science
Zitationen: 28
Dimensions
Zitationen: 37
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2011
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110085798
HGF-Programm 43.12.01 (POF II, LK 01) Tailored properties of nanomaterials
Erschienen in International Journal of Materials Research
Band 102
Seiten 735-742
Nachgewiesen in Scopus
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