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Originalveröffentlichung
DOI: 10.3139/146.110520
Web of Science
Zitationen: 21

Electronic origin of structure and mechanical properties in Y and Nb alloyed Ti-Al-N thin films

Rachbauer, R.; Holec, D.; Lattemann, M.; Hultman, L.; Mayrhofer, P.H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2011
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110085798
HGF-Programm 43.12.01; LK 01
Erschienen in International Journal of Materials Research
Band 102
Seiten 735-742
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