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Controlled flow to arc transition in sputtering for high rate deposition of carbon films

Lattemann, M.; Abendroth, B.; Moafi, A.; McCulloch, D.G.; McKenzie, D.R.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.diamond.2010.11.007
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Zitationen: 32
Web of Science
Zitationen: 26
Dimensions
Zitationen: 30
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2011
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110085815
HGF-Programm 43.12.01 (POF II, LK 01) Tailored properties of nanomaterials
Erschienen in Diamond and Related Materials
Band 20
Seiten 68-74
Nachgewiesen in Dimensions
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