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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.diamond.2010.11.007
Web of Science
Zitationen: 20

Controlled flow to arc transition in sputtering for high rate deposition of carbon films

Lattemann, M.; Abendroth, B.; Moafi, A.; McCulloch, D.G.; McKenzie, D.R.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2011
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110085815
HGF-Programm 43.12.01; LK 01
Erschienen in Diamond and Related Materials
Band 20
Seiten 68-74
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