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Room temperature oxidation of magnetron sputtered Si-C-N films

Hüger, E.; Gao, D.; Markwitz, A.; Geckle, U.; Bruns, M.; Schmidt, H.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.apsusc.2011.11.012
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seit 27.04.2018
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Werkstoffprozesstechnik (IAM-WPT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2012
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110086099
HGF-Programm 43.16.02 (POF II, LK 02)
Erschienen in Applied Surface Science
Band 258
Seiten 2944-2947
Nachgewiesen in Web of Science
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