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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s00216-011-5435-z

Characterization of non-stoichiometric co-sputtered Ba₀̣₆Sr₀̣₄(Ti₁₋ₓFeₓ)₁₊ₓO₃₋sub(δ) thin films for tunable passive microwave applications

Stemme, F.; Geßwein, H.; Drahus, M.D.; Holländer, B.; Azucena, C.; Binder, J.R.; Eichel, R.A.; Haußelt, J.; Bruns, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Institut für Angewandte Materialien - Werkstoffprozesstechnik (IAM-WPT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2012
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110086827
HGF-Programm 43.16.02; LK 02
Erschienen in Analytical and Bioanalytical Chemistry
Band 403
Seiten 643-650
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