KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

Characterization of non-stoichiometric co-sputtered Ba₀̣₆Sr₀̣₄(Ti₁₋ₓFeₓ)₁₊ₓO₃₋sub(δ) thin films for tunable passive microwave applications

Stemme, F. 1; Geßwein, H. 1; Drahus, M. D.; Holländer, B.; Azucena, C. 2; Binder, J. R. 1; Eichel, R. A.; Haußelt, J. 1; Bruns, M. 1
1 Institut für Angewandte Materialien - Werkstoffprozesstechnik (IAM-WPT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s00216-011-5435-z
Scopus
Zitationen: 5
Web of Science
Zitationen: 5
Dimensions
Zitationen: 5
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Werkstoffprozesstechnik (IAM-WPT)
Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2012
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110086827
HGF-Programm 43.16.02 (POF II, LK 02) KNMF laboratory for microscopy a.spect.
Erschienen in Analytical and Bioanalytical Chemistry
Band 403
Seiten 643-650
Nachgewiesen in Dimensions
Web of Science
Scopus
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page