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Large-distance rf- and dc-sputtering of epitaxial La₁₋ₓSrₓMnO₃ thin films

Leufke, P. 1; Mishra, A. K. 1; Beck, A. 2; Wang, D. 3; Kübel, C. ORCID iD icon 3; Kruk, R. 1; Hahn, H. 1
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Festkörperphysik (IFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.tsf.2012.04.064
Scopus
Zitationen: 23
Web of Science
Zitationen: 23
Dimensions
Zitationen: 24
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Festkörperphysik (IFP)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2012
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110087362
HGF-Programm 43.16.02 (POF II, LK 02) KNMF laboratory for microscopy a.spect.
Erschienen in Thin Solid Films
Band 520
Seiten 5521-5527
Nachgewiesen in Web of Science
Dimensions
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