Large-distance rf- and dc-sputtering of epitaxial La₁₋ₓSrₓMnO₃ thin films
Leufke, P. 1; Mishra, A. K. 1; Beck, A. 2; Wang, D.
3; Kübel, C.
3; Kruk, R. 1; Hahn, H. 1
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Festkörperphysik (IFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3; Kübel, C.
3; Kruk, R. 1; Hahn, H. 11 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Festkörperphysik (IFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Festkörperphysik (IFP) Institut für Nanotechnologie (INT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2012 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110087362 |
| HGF-Programm | 43.16.02 (POF II, LK 02) KNMF laboratory for microscopy a.spect. |
| Erschienen in | Thin Solid Films |
| Band | 520 |
| Seiten | 5521-5527 |
| Nachgewiesen in | Scopus Web of Science Dimensions |