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Ion-beam-treated strained AlGaN/GaN multi-quantum wells: HAADF-STEM, HRTEM, Raman and HRXRD characterizations

Devaraju, G.; Pathak, A. P.; Rao, N. S.; Saikiran, V.; Wang, D. 1; Scherer, T. 1; Mishra, A. K. 1; Kübel, C. ORCID iD icon 1
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2012
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110088237
HGF-Programm 43.16.02 (POF II, LK 02) KNMF laboratory for microscopy a.spect.
Erschienen in Radiation Effects and Defects in Solids
Band 167
Seiten 612-620
Nachgewiesen in Dimensions
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