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Ion-beam-treated strained AlGaN/GaN multi-quantum wells: HAADF-STEM, HRTEM, Raman and HRXRD characterizations

Devaraju, G.; Pathak, A.P.; Rao, N.S.; Saikiran, V.; Wang, D.; Scherer, T.; Mishra, A.K.; Kübel, C.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2012
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110088237
HGF-Programm 43.16.02 (POF II, LK 02)
Erschienen in Radiation Effects and Defects in Solids
Band 167
Seiten 612-620
Nachgewiesen in Web of Science
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