KIT | KIT-Bibliothek | Impressum

Silicon nanocrystals prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition: importance of parasitic oxidation for third generation photovoltaic applications

Hartel, A.M.; Gutsch, S.; Hiller, D.; Kübel, C.; Zakharov, N.; Werner, P.; Zacharias, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2012
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110089346
HGF-Programm 43.16.02; LK 02
Erschienen in Applied Physics Letters
Band 101
Seiten 193103/1-4
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft KITopen Landing Page