Silicon nanocrystals prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition: importance of parasitic oxidation for third generation photovoltaic applications
Hartel, A. M.; Gutsch, S.; Hiller, D.; Kübel, C.
1; Zakharov, N.; Werner, P.; Zacharias, M.
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1; Zakharov, N.; Werner, P.; Zacharias, M.1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2012 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110089346 |
| HGF-Programm | 43.16.02 (POF II, LK 02) KNMF laboratory for microscopy a.spect. |
| Erschienen in | Applied Physics Letters |
| Band | 101 |
| Seiten | 193103/1-4 |
| Nachgewiesen in | Web of Science OpenAlex Dimensions Scopus |
| Globale Ziele für nachhaltige Entwicklung |