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Originalveröffentlichung
DOI: 10.3762/bjnano.3.71
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Zitationen: 31
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Zitationen: 28

Polymer blend lithography: A versatile method to fabricate nanopatterned self-assembled monolayers

Huang, C.; Moosmann, M.; Jin, J.; Heiler, T.; Walheim, S.; Schimmel, T.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2012
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110089830
HGF-Programm 43.11.02 (POF II, LK 01)
Erschienen in Beilstein Journal of Nanotechnology
Band 3
Seiten 620-628
Nachgewiesen in Scopus
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