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Design considerations for a fast stacked-MOSFET switch

Sack, M. 1; Keipert, S. 1; Hochberg, M. 1; Greule, M. 1; Mueller, G. 1
1 Institut für Hochleistungsimpuls- und Mikrowellentechnik (IHM), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1109/TPS.2013.2267395
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Zitationen: 24
Web of Science
Zitationen: 18
Dimensions
Zitationen: 22
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Hochleistungsimpuls- und Mikrowellentechnik (IHM)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110093277
HGF-Programm 35.02.01 (POF II, LK 01) Vorbehandlungs- und Aufbereitungsverf.
Erschienen in IEEE Transactions on Plasma Science
Band 41
Seiten 2630-2636
Nachgewiesen in Dimensions
Scopus
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