Antiferromagnetism in UO₂ thin epitaxial films

Bao, Z.; Springell, R.; Walker, H. C.; Leiste, H.; Kübel, K.; Prang, R.; Nisbet, G.; Langridge, S.; Ward, R. C. C.; Gouder, T.; Caciuffo, R.; Lander, G. H.

doi:10.1103/PhysRevB.88.134426

Antiferromagnetism in UO₂ thin epitaxial films

Bao, Z.; Springell, R.; Walker, H. C.; Leiste, H. ¹; Kübel, K. ¹; Prang, R. ¹; Nisbet, G.; Langridge, S.; Ward, R. C. C.; Gouder, T.; Caciuffo, R.; Lander, G. H.
¹ Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)

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DOI: 10.1103/PhysRevB.88.134426

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP) Institut für Nanotechnologie (INT) Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	2013
Sprache	Englisch
Identifikator	ISSN: 0163-1829, 0556-2805, 1094-1622, 1095-3795, 1098-0121, 1550-235X, 2469-9950, 2469-9969 KITopen-ID: 110093573
HGF-Programm	43.16.02 (POF II, LK 02) KNMF laboratory for microscopy a.spect.
Erschienen in	Physical review / B
Verlag	American Physical Society (APS)
Band	88
Seiten	134426/1-10
Nachgewiesen in	Scopus Dimensions Web of Science

Repository KITopen

Antiferromagnetism in UO₂ thin epitaxial films