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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1103/PhysRevB.88.134426
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Web of Science
Zitationen: 13

Antiferromagnetism in UO₂ thin epitaxial films

Bao, Z.; Springell, R.; Walker, H.C.; Leiste, H.; Kübel, K.; Prang, R.; Nisbet, G.; Langridge, S.; Ward, R.C.C.; Gouder, T.; Caciuffo, R.; Lander, G.H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0163-1829, 0556-2805, 1094-1622, 1095-3795, 1098-0121, 1550-235X, 2469-9950, 2469-9969
KITopen ID: 110093573
HGF-Programm 43.16.02; LK 02
Erschienen in Physical review / B
Band 88
Seiten 134426/1-10
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