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Antiferromagnetism in UO₂ thin epitaxial films

Bao, Z.; Springell, R.; Walker, H. C.; Leiste, H. 1; Kübel, K. 1; Prang, R. 1; Nisbet, G.; Langridge, S.; Ward, R. C. C.; Gouder, T.; Caciuffo, R.; Lander, G. H.
1 Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1103/PhysRevB.88.134426
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Zitationen: 21
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Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0163-1829, 0556-2805, 1094-1622, 1095-3795, 1098-0121, 1550-235X, 2469-9950, 2469-9969
KITopen-ID: 110093573
HGF-Programm 43.16.02 (POF II, LK 02) KNMF laboratory for microscopy a.spect.
Erschienen in Physical review / B
Verlag American Physical Society (APS)
Band 88
Seiten 134426/1-10
Nachgewiesen in Web of Science
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