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Controlled modification of mono- and bilayer graphene in O₂, H₂ and CF₄ plasmas

Felten, A.; Eckmann, A.; Pireaux, J.J.; Krupke, R.; Casiraghi, C.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1088/0957-4484/24/35/355705
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seit 07.05.2018
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110093719
HGF-Programm 43.11.02 (POF II, LK 01)
Erschienen in Nanotechnology
Band 24
Seiten 355705/1-8
Nachgewiesen in Scopus
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