Chemical activity of thin oxide layers: strong interaction with the support yield a new thin-film phase of ZnO

Schott, V.; Oberhofer, H.; Birkner, A.; Xu, M.; Wang, Y.; Muhler, M.; Reuter, K.; Wöll, C.

Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/anie.201302315

Scopus
Zitationen: 65

Web of Science
Zitationen: 60

Seitenaufrufe: 5
seit 27.06.2018

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Jahr	2013
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 110093798
HGF-Programm	43.12.01 (POF II, LK 01)
Erschienen in	Angewandte Chemie - International Edition
Band	52
Seiten	11925-11929
Nachgewiesen in	Web of Science Scopus