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Chemical activity of thin oxide layers: strong interaction with the support yield a new thin-film phase of ZnO

Schott, V.; Oberhofer, H.; Birkner, A.; Xu, M.; Wang, Y.; Muhler, M.; Reuter, K.; Wöll, C.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/anie.201302315
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Web of Science
Zitationen: 60
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seit 27.06.2018
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110093798
HGF-Programm 43.12.01 (POF II, LK 01)
Erschienen in Angewandte Chemie - International Edition
Band 52
Seiten 11925-11929
Nachgewiesen in Web of Science
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