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Crack propagation and fracture in silicon wafers under thermal stress

Danilewsky, A.; Wittge, J.; Kiefl, K.; Allen, D.; McNally, P.; Garagorri, J.; Reyes Elizalde, M.; Baumbach, T.; Tanner, B.K.

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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1107/S0021889813003695
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Zitationen: 20
Zugehörige Institution(en) am KIT ANKA - die Synchrotronstrahlungsquelle am KIT (ANKA)
Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0021-8898, 1600-5767
KITopen-ID: 110093874
HGF-Programm 55.51.10 (POF II, LK 02) Betrieb und Entw.d.ANKA Beaml.u.Nutzers.
Erschienen in Journal of applied crystallography
Verlag International Union of Crystallography
Band 46
Seiten 849-855
Nachgewiesen in Dimensions
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