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Electron-beam-induced direct etching of graphene

Thiele, C. 1; Felten, A. 1; Echtermeyer, T. J.; Ferrari, A. C.; Casiraghi, C.; Löhneysen, H. von; Krupke, R. 1
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.carbon.2013.07.038
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Zitationen: 40
Web of Science
Zitationen: 38
Dimensions
Zitationen: 38
BibTeX (UTF-8) BibTeX (ASCII) EndNote/Refer (.enw) RIS CSL-JSON ISI
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0008-6223, 1873-3891
KITopen-ID: 110093887
HGF-Programm 43.11.02 (POF II, LK 01) Electronic transport in nanostructures
Erschienen in Carbon
Verlag Elsevier
Band 64
Seiten 84-91
Nachgewiesen in Dimensions
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