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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1109/JMEMS.2012.2226933
Web of Science
Zitationen: 6

Comparison of the stress distribution and fatigue behavior of 10- and 25-μm thick deep-reactive-ion-etched Si kilohertz resonators

Straub, T.; Theillet, P.O.; Eberl, C.; Pierron, O.N.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Werkstoff- und Biomechanik (IAM-WBM)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110094475
HGF-Programm 34.04.04; LK 01
Erschienen in Journal of Microelectromechanical Systems
Band 22
Seiten 418-429
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