Comparison of the stress distribution and fatigue behavior of 10- and 25-μm thick deep-reactive-ion-etched Si kilohertz resonators
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Materialien - Werkstoff- und Biomechanik (IAM-WBM) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2013 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110094475 |
| HGF-Programm | 34.04.04 (POF II, LK 01) Anwendungen für neue Prozesse u.Produkte |
| Erschienen in | Journal of Microelectromechanical Systems |
| Band | 22 |
| Seiten | 418-429 |
| Nachgewiesen in | Dimensions Scopus Web of Science |