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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1039/C3RA44541K
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Zitationen: 7
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Zitationen: 7

Electrochemical behavior of a laser microstructured fluorine doped tin oxide anode layer with a plasma pretreatment for 3D battery systems

Park, J.H.; Kohler, R.; Pfleging, W.; Choi, W.; Seifert, H.J.; Lee, J.K.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2014
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2046-2069
KITopen ID: 110094951
HGF-Programm 43.15.02; LK 01
Erschienen in RSC Advances
Band 4
Heft 9
Seiten 4247-4252
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