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Electrochemical behavior of a laser microstructured fluorine doped tin oxide anode layer with a plasma pretreatment for 3D battery systems

Park, J. H.; Kohler, R. 1; Pfleging, W. ORCID iD icon 1; Choi, W.; Seifert, H. J. 1; Lee, J. K.
1 Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1039/C3RA44541K
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Zitationen: 10
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Zitationen: 9
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2014
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2046-2069
KITopen-ID: 110094951
HGF-Programm 43.15.02 (POF II, LK 01) Storage of electrical energy
Erschienen in RSC Advances
Verlag Royal Society of Chemistry (RSC)
Band 4
Heft 9
Seiten 4247-4252
Nachgewiesen in Scopus
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Web of Science
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