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Volume expansion during lithiation of amorphous silicon thin film electrodes studied by in-operando neutron reflectometry

Jerliu, B.; Hüger, E.; Dörrer, L.; Seidlhofer, B. K.; Steitz, R.; Oberst, V. 1; Geckle, U. 1; Bruns, M. 1; Schmidt, H.
1 Institut für Angewandte Materialien (IAM), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/jp502261t
Scopus
Zitationen: 109
Web of Science
Zitationen: 107
Dimensions
Zitationen: 111
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien – Energiespeichersysteme (IAM-ESS)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2014
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110095899
HGF-Programm 43.16.02 (POF II, LK 02) KNMF laboratory for microscopy a.spect.
Erschienen in Journal of Physical Chemistry C
Band 118
Seiten 9395-9399
Nachgewiesen in Web of Science
Dimensions
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