KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/jp502261t
Scopus
Zitationen: 43
Web of Science
Zitationen: 41

Volume expansion during lithiation of amorphous silicon thin film electrodes studied by in-operando neutron reflectometry

Jerliu, B.; Hüger, E.; Dörrer, L.; Seidlhofer, B.K.; Steitz, R.; Oberst, V.; Geckle, U.; Bruns, M.; Schmidt, H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Energiespeichersysteme (IAM-ESS)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2014
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110095899
HGF-Programm 43.16.02; LK 02
Erschienen in Journal of Physical Chemistry C
Band 118
Seiten 9395-9399
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft KITopen Landing Page