Volume expansion during lithiation of amorphous silicon thin film electrodes studied by in-operando neutron reflectometry

Jerliu, B.; Hüger, E.; Dörrer, L.; Seidlhofer, B. K.; Steitz, R.; Oberst, V.; Geckle, U.; Bruns, M.; Schmidt, H.

doi:10.1021/jp502261t

Volume expansion during lithiation of amorphous silicon thin film electrodes studied by in-operando neutron reflectometry

Jerliu, B.; Hüger, E.; Dörrer, L.; Seidlhofer, B. K.; Steitz, R.; Oberst, V. ¹; Geckle, U. ¹; Bruns, M. ¹; Schmidt, H.
¹ Institut für Angewandte Materialien (IAM), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Angewandte Materialien – Energiespeichersysteme (IAM-ESS) Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	2014
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 110095899
HGF-Programm	43.16.02 (POF II, LK 02) KNMF laboratory for microscopy a.spect.
Erschienen in	Journal of Physical Chemistry C
Band	118
Seiten	9395-9399
Nachgewiesen in	Scopus Web of Science OpenAlex Dimensions
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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/jp502261t

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