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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1088/0964-1726/23/8/087001
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Deep reactive ion etching of auxetic structures: present capabilities and challenges

Muslija, A.; Diaz Lantada, A.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2014
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0964-1726, 1361-665X
KITopen ID: 110096222
HGF-Programm 43.16.01; LK 02
Erschienen in Smart materials and structures
Band 23
Heft 8
Seiten 087001/1-7
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