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Fast and accurate X-ray lithography simulation enabled by using Monte Carlo method. New version of DoseSim: a software dedicated to deep X-ray lithography (LIGA)

Meyer, P.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s00542-012-1637-3
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seit 27.04.2018
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2012
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110096244
HGF-Programm 43.13.01 (POF II, LK 01)
Erschienen in Microsystem Technologies
Band 18
Seiten 1971-1980
Nachgewiesen in Scopus
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