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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s00542-012-1448-6

Quality control for deep X-ray lithography (LIGA): a metrology study

Meyer, P.; Claverley, J.D.; Leach, R.K.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2012
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110096255
HGF-Programm 43.14.02; LK 01
Erschienen in Microsystem Technologies
Band 18
Seiten 415-421
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