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Quality control for deep X-ray lithography (LIGA): a metrology study

Meyer, P. 1; Claverley, J. D.; Leach, R. K.
1 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s00542-012-1448-6
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Zitationen: 4
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Zitationen: 4
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2012
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110096255
HGF-Programm 43.14.02 (POF II, LK 01) X-Ray-Optics
Erschienen in Microsystem Technologies
Band 18
Seiten 415-421
Nachgewiesen in Dimensions
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