Quality control for deep X-ray lithography (LIGA): a metrology study
Meyer, P.
1; Claverley, J. D.; Leach, R. K.
1 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1; Claverley, J. D.; Leach, R. K.1 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2012 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110096255 |
| HGF-Programm | 43.14.02 (POF II, LK 01) X-Ray-Optics |
| Erschienen in | Microsystem Technologies |
| Band | 18 |
| Seiten | 415-421 |
| Nachgewiesen in | OpenAlex Web of Science Dimensions Scopus |
| Globale Ziele für nachhaltige Entwicklung |