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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.tsf.2014.06.048
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Zitationen: 1

Influence of a passivation layer on strain relaxation and lattice disorder in thin nano-crystalline Pt films during in-situ annealing

Gruber, W.; Rahn, J.; Baehtz, C.; Horisberger, M.; Geckle, U.; Schmidt, H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Energiespeichersysteme (IAM-ESS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2014
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0040-6090, 1879-2731
KITopen-ID: 110096771
HGF-Programm 43.15.02 (POF II, LK 01)
Erschienen in Thin solid films
Band 565
Seiten 79-83
Nachgewiesen in Web of Science
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