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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s00542-013-1963-0
Web of Science
Zitationen: 1

Ferroelectric thin film fabrication by direct UV-lithography

Benkler, M.; Paul, F.; Schott, J.; Hanemann, T.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Werkstoffprozesstechnik (IAM-WPT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2014
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0946-7076, 1432-1858
KITopen-ID: 110096894
HGF-Programm 43.12.01 (POF II, LK 01)
Erschienen in Microsystem technologies
Band 20
Seiten 1859-1867
Nachgewiesen in Scopus
Web of Science
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