KIT | KIT-Bibliothek | Impressum
Open Access Logo
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s00542-013-1963-0

Ferroelectric thin film fabrication by direct UV-lithography

Benkler, M.; Paul, F.; Schott, J.; Hanemann, T.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Werkstoffprozesstechnik (IAM-WPT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2014
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110096894
HGF-Programm 43.12.01; LK 01
Erschienen in Microsystem Technologies
Band 20
Seiten 1859-1867
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft KITopen Landing Page