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Microstructure and hardness of reactivity r.f. magnetron sputtered Cr-V-O thin films in dependence on composition and substrate bias

Spitz, S.; Stüber, M.; Leiste, H.; Ulrich, S.; Seifert, H.J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Institut für Angewandte Geowissenschaften (AGW)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2014
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0257-8972, 1879-3347
KITopen ID: 110097320
HGF-Programm 43.12.01; LK 01
Erschienen in Surface and coatings technology
Band 257
Seiten 355-362
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