Characterization method for new resist formulations for HAR patterns made by X-ray lithography
Kunka, D.
1; Mohr, J. 1; Nazmov, V. 1; Meiser, J. 1; Meyer, P. 1; Amberger, M. 1; Koch, F. 1; Schulz, J.
; Walter, M.; Duttenhofer, T.; Voigt, A.; Ahrens, G.; Grützner, G.
1 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1; Mohr, J. 1; Nazmov, V. 1; Meiser, J. 1; Meyer, P. 1; Amberger, M. 1; Koch, F. 1; Schulz, J.
; Walter, M.; Duttenhofer, T.; Voigt, A.; Ahrens, G.; Grützner, G.1 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen) Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2014 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0946-7076, 1432-1858 KITopen-ID: 110097748 |
| HGF-Programm | 43.14.02 (POF II, LK 01) X-Ray-Optics |
| Erschienen in | Microsystem technologies |
| Verlag | Springer |
| Band | 20 |
| Seiten | 2023-2029 |
| Nachgewiesen in | Scopus Dimensions Web of Science |