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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s00542-013-2055-x
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Zitationen: 2

Characterization method for new resist formulations for HAR patterns made by X-ray lithography

Kunka, D.; Mohr, J.; Nazmov, V.; Meiser, J.; Meyer, P.; Amberger, M.; Koch, F.; Schulz, J.; Walter, M.; Duttenhofer, T.; Voigt, A.; Ahrens, G.; Grützner, G.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2014
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0946-7076, 1432-1858
KITopen ID: 110097748
HGF-Programm 43.14.02; LK 01
Erschienen in Microsystem technologies
Band 20
Seiten 2023-2029
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