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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1063/1.4896635
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Zitationen: 4

Exchange bias in UO₂/Fe₃O₄ thin films above the Neel temperature of UO₂

Tereshina, E.A.; Bao, Z.; Havela, L.; Danis, S.; Kübel, C.; Gouder, T.; Caciuffo, R.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2014
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0003-6951, 1077-3118
KITopen ID: 110097870
HGF-Programm 43.16.02; LK 02
Erschienen in Applied physics letters
Band 105
Heft 2
Seiten 122405/1-5
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