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Exchange bias in UO₂/Fe₃O₄ thin films above the Neel temperature of UO₂

Tereshina, E. A.; Bao, Z.; Havela, L.; Danis, S.; Kübel, C. ORCID iD icon 1; Gouder, T.; Caciuffo, R.
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1063/1.4896635
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Zitationen: 10
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Dimensions
Zitationen: 10
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2014
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0003-6951, 1077-3118
KITopen-ID: 110097870
HGF-Programm 43.16.02 (POF II, LK 02) KNMF laboratory for microscopy a.spect.
Erschienen in Applied physics letters
Verlag American Institute of Physics (AIP)
Band 105
Heft 2
Seiten 122405/1-5
Nachgewiesen in Dimensions
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