Exchange bias in UO₂/Fe₃O₄ thin films above the Neel temperature of UO₂
Tereshina, E. A.; Bao, Z.; Havela, L.; Danis, S.; Kübel, C.
1; Gouder, T.; Caciuffo, R.
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1; Gouder, T.; Caciuffo, R.1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2014 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0003-6951, 1077-3118 KITopen-ID: 110097870 |
| HGF-Programm | 43.16.02 (POF II, LK 02) KNMF laboratory for microscopy a.spect. |
| Erschienen in | Applied physics letters |
| Verlag | American Institute of Physics (AIP) |
| Band | 105 |
| Heft | 2 |
| Seiten | 122405/1-5 |
| Nachgewiesen in | Scopus Dimensions Web of Science |
Seitenaufrufe: 53
seit 12.05.2018
seit 12.05.2018