Formation of size controlled silicon nanocrystals in nitrogen free silicon dioxide matrix prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition
Laube, J.; Gutsch, S.; Hiller, D.; Bruns, M. 1; Kübel, C.
1; Weiss, C.; Zacharias, M.
1 Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1; Weiss, C.; Zacharias, M.1 Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Materialien – Energiespeichersysteme (IAM-ESS) Institut für Nanotechnologie (INT) Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2014 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0021-8979, 0148-6349, 1089-7550 KITopen-ID: 110098083 |
| HGF-Programm | 43.16.02 (POF II, LK 02) KNMF laboratory for microscopy a.spect. |
| Erschienen in | Journal of applied physics |
| Verlag | American Institute of Physics (AIP) |
| Band | 116 |
| Heft | 22 |
| Seiten | Art. Nr. 223501 |
| Nachgewiesen in | Web of Science Dimensions Scopus |