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Formation of size controlled silicon nanocrystals in nitrogen free silicon dioxide matrix prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition

Laube, J.; Gutsch, S.; Hiller, D.; Bruns, M.; Kübel, C.; Weiss, C.; Zacharias, M.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1063/1.4904053
Scopus
Zitationen: 24
Web of Science
Zitationen: 23
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Angewandte Materialien - Energiespeichersysteme (IAM-ESS)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2014
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0021-8979, 0148-6349, 1089-7550
KITopen-ID: 110098083
HGF-Programm 43.16.02 (POF II, LK 02)
KNMF laboratory for microscopy a.spect.
Erschienen in Journal of applied physics
Band 116
Heft 22
Seiten Art. Nr. 223501
Nachgewiesen in Scopus
Web of Science
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