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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1063/1.4904053
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Zitationen: 13

Formation of size controlled silicon nanocrystals in nitrogen free silicon dioxide matrix prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition

Laube, J.; Gutsch, S.; Hiller, D.; Bruns, M.; Kübel, C.; Weiss, C.; Zacharias, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Energiespeichersysteme (IAM-ESS)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2014
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0021-8979, 0148-6349, 1089-7550
KITopen ID: 110098083
HGF-Programm 43.16.02; LK 02
Erschienen in Journal of applied physics
Band 116
Heft 22
Seiten Art. Nr. 223501
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