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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1063/1.4897497
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Zitationen: 10
Web of Science
Zitationen: 9

Plasmonic nanoring fabrication tuned to pitch: efficient, deterministic, and large scale realization of ultra-small gaps for next generation plasmonic devices

Lehr, D.; Alaee, R.; Filter, R.; Dietrich, K.; Siefke, T.; Rockstuhl, C.; Lederer, F.; Kley, E.B.; Tünnermann, A.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Theorie der Kondensierten Materie (TKM)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2014
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110098613
HGF-Programm 43.14.01; LK 01
Erschienen in Applied Physics Letters
Band 105
Seiten 143110
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