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X-ray diffraction imaging for predictive metrology of crack propagation in 450-mm diameter silicon wafers

Tanner, B.K.; Wittge, J.; Vagovic, P.; Baumbach, T.; Allen, D.; McNally, P.J.; Bytheway, R.; Jacques, D.; Fossati, M.C.; Bowen, D.K.; Garagorri, J.; Elizalde, M.R.; Danilewsky, A.N.



Zugehörige Institution(en) am KIT ANKA - die Synchrotronstrahlungsquelle am KIT (ANKA)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator DOI: 10.1017/S0885715613000122
KITopen ID: 110099314
HGF-Programm 55.51.10; LK 02
Erschienen in Powder Diffraction
Band 28
Seiten 95-99
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