X-ray diffraction imaging for predictive metrology of crack propagation in 450-mm diameter silicon wafers

Tanner, B. K.; Wittge, J.; Vagovic, P.; Baumbach, T.; Allen, D.; McNally, P. J.; Bytheway, R.; Jacques, D.; Fossati, M. C.; Bowen, D. K.; Garagorri, J.; Elizalde, M. R.; Danilewsky, A. N.

doi:10.1017/S0885715613000122

X-ray diffraction imaging for predictive metrology of crack propagation in 450-mm diameter silicon wafers

Tanner, B. K.; Wittge, J.; Vagovic, P. ¹; Baumbach, T. ¹; Allen, D.; McNally, P. J.; Bytheway, R.; Jacques, D.; Fossati, M. C.; Bowen, D. K.; Garagorri, J.; Elizalde, M. R.; Danilewsky, A. N.
¹ Institut für Synchrotronstrahlung (ISS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)

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DOI: 10.1017/S0885715613000122

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Zugehörige Institution(en) am KIT	ANKA - die Synchrotronstrahlungsquelle am KIT (ANKA) Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	2013
Sprache	Englisch
Identifikator	ISSN: 0885-7156, 1945-7413 KITopen-ID: 110099314
HGF-Programm	55.51.10 (POF II, LK 02) Betrieb und Entw.d.ANKA Beaml.u.Nutzers.
Erschienen in	Powder diffraction
Verlag	Cambridge University Press (CUP)
Band	28
Seiten	95-99
Nachgewiesen in	Web of Science Dimensions Scopus

Repository KITopen

X-ray diffraction imaging for predictive metrology of crack propagation in 450-mm diameter silicon wafers