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3D direct laser writing using a 405 nm diode laser

Mueller, P. 1,2; Thiel, M.; Wegener, M. 1,2
1 Institut für Angewandte Physik (APH), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1364/OL.39.006847
Scopus
Zitationen: 63
Web of Science
Zitationen: 56
Dimensions
Zitationen: 65
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2014
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0146-9592, 1071-2763, 1071-8842, 1539-4794
KITopen-ID: 110099351
HGF-Programm 43.14.01 (POF II, LK 01) Photonics crystals and metamaterials
Erschienen in Optics letters
Verlag Optica Publishing Group (OSA)
Band 39
Seiten 6847-6850
Nachgewiesen in Dimensions
Web of Science
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