Effect of rapid thermal annealing on texture and properties of pulsed laser deposited zinc oxide thin films

Sekhar, K. C.; Levichev, S.; Kamakshi, K.; Doyle, S.; Chahboun, A.; Gomes, M. J. M.

doi:10.1016/j.matlet.2013.02.032

Effect of rapid thermal annealing on texture and properties of pulsed laser deposited zinc oxide thin films

Sekhar, K. C.; Levichev, S.; Kamakshi, K.; Doyle, S. ¹; Chahboun, A.; Gomes, M. J. M.
¹ Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)

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DOI: 10.1016/j.matlet.2013.02.032

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Zugehörige Institution(en) am KIT	ANKA - die Synchrotronstrahlungsquelle am KIT (ANKA)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	2013
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 110099636
HGF-Programm	55.51.10 (POF II, LK 02) Betrieb und Entw.d.ANKA Beaml.u.Nutzers.
Erschienen in	Materials Letters
Band	98
Seiten	149-152
Nachgewiesen in	Dimensions Scopus Web of Science

Repository KITopen

Effect of rapid thermal annealing on texture and properties of pulsed laser deposited zinc oxide thin films