Nanoscale investigation of the interface situation of plated nickel and thermally formed nickel silicide for silicon solar cell metallization
Mondon, A.; Wang, D.
; Zuschlag, A.; Bartsch, J.; Glatthaar, M.; Glunz, S. W.
; Zuschlag, A.; Bartsch, J.; Glatthaar, M.; Glunz, S. W.| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2014 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0169-4332, 1873-5584 KITopen-ID: 110099910 |
| HGF-Programm | 43.16.02 (POF II, LK 02) KNMF laboratory for microscopy a.spect. |
| Erschienen in | Applied surface science |
| Verlag | Elsevier |
| Band | 323 |
| Heft | Dec |
| Seiten | 31-39 |
| Nachgewiesen in | Web of Science OpenAlex Dimensions Scopus |
| Globale Ziele für nachhaltige Entwicklung |