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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.apsusc.2014.08.157
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Zitationen: 3

Nanoscale investigation of the interface situation of plated nickel and thermally formed nickel silicide for silicon solar cell metallization

Mondon, A.; Wang, D.; Zuschlag, A.; Bartsch, J.; Glatthaar, M.; Glunz, S.W.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2014
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0169-4332, 1873-5584
KITopen ID: 110099910
HGF-Programm 43.16.02; LK 02
Erschienen in Applied surface science
Band 323
Heft Dec
Seiten 31-39
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