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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.mee.2014.11.025
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Residual layer-free reverse nanoimprint lithography on silicon and metal-coated substrates

Fernandez, A.; Medina, J.; Benkel, C.; Guttmann, M.; Bilenberg, B.; Thamdrup, L.H.; Nielsen, T.; Sotomayor Torres, C.M.; Kehagias, N.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0167-9317, 1873-5568
KITopen ID: 110099999
HGF-Programm 43.13.01; LK 01
Erschienen in Microelectronic engineering
Band 141
Seiten 56-61
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