Residual layer-free reverse nanoimprint lithography on silicon and metal-coated substrates

Fernandez, A.; Medina, J.; Benkel, C.; Guttmann, M.; Bilenberg, B.; Thamdrup, L. H.; Nielsen, T.; Sotomayor Torres, C. M.; Kehagias, N.

doi:10.1016/j.mee.2014.11.025

Residual layer-free reverse nanoimprint lithography on silicon and metal-coated substrates

Fernandez, A.; Medina, J.; Benkel, C. ¹; Guttmann, M. ¹; Bilenberg, B.; Thamdrup, L. H.; Nielsen, T.; Sotomayor Torres, C. M.; Kehagias, N.
¹ Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)

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DOI: 10.1016/j.mee.2014.11.025

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	2015
Sprache	Englisch
Identifikator	ISSN: 0167-9317, 1873-5568 KITopen-ID: 110099999
HGF-Programm	43.22.01 (POF III, LK 01) Functionality by Design
Erschienen in	Microelectronic engineering
Verlag	Elsevier
Band	141
Seiten	56-61
Nachgewiesen in	Dimensions Scopus Web of Science

Repository KITopen

Residual layer-free reverse nanoimprint lithography on silicon and metal-coated substrates