SEC analysis of poly(acrylic acid) and poly(methacrylic acid)

Lacik, I.; Stach, M.; Kasak, P.; Semak, V.; Uhelska, L.; Chovancova, A.; Reinhold, G.; Kilz, P.; Delaittre, G.; Charleux, B.; Chaduc, I.; D'Agosto, F.; Lansalot, M.; Gaborieau, M.; Castignolles, P.; Gilbert, R. G.; Szablan, Z.; Barner-Kowollik, C.; Hesse, P.; Buback, M.

doi:10.1002/macp.201400339

SEC analysis of poly(acrylic acid) and poly(methacrylic acid)

Lacik, I.; Stach, M.; Kasak, P.; Semak, V.; Uhelska, L.; Chovancova, A.; Reinhold, G.; Kilz, P.; Delaittre, G. ¹^,2; Charleux, B.; Chaduc, I.; D'Agosto, F.; Lansalot, M.; Gaborieau, M.; Castignolles, P.; Gilbert, R. G.; Szablan, Z.; Barner-Kowollik, C. ²; Hesse, P.; ... mehr

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP) Institut für Toxikologie und Genetik (ITG)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	2015
Sprache	Englisch
Identifikator	ISSN: 0025-116X, 1022-1352, 1521-3935 KITopen-ID: 110100027
HGF-Programm	43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in	Macromolecular chemistry and physics
Verlag	Wiley-VCH Verlag
Band	216
Heft	1
Seiten	23-37
Vorab online veröffentlicht am	27.10.2014
Nachgewiesen in	Web of Science Scopus Dimensions

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