Dislocation dynamics and slip band formation in silicon: In-situ study by X-ray diffraction imaging
Danilewsky, A. N.; Wittge, J.; Croell, A.; Allen, D.; McNally, P.; Vagovic, P. 1; Santos Rolo, T. dos; Li, Z.
1; Baumbach, T. 1; Gorostegui-Colinas, E.; Garagorri, J.; Elizalde, M. R.; Fossati, M. C.; Bowen, D. K.; Tanner, B. K.
1 Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1; Baumbach, T. 1; Gorostegui-Colinas, E.; Garagorri, J.; Elizalde, M. R.; Fossati, M. C.; Bowen, D. K.; Tanner, B. K.1 Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Synchrotronstrahlung (ISS) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2011 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110100621 |
| HGF-Programm | 55.51.10 (POF II, LK 02) Betrieb und Entw.d.ANKA Beaml.u.Nutzers. |
| Erschienen in | Journal of Crystal Growth |
| Band | 318 |
| Seiten | 1157-1163 |
| Nachgewiesen in | OpenAlex Web of Science Scopus Dimensions |
| Globale Ziele für nachhaltige Entwicklung |